Физические процессы в технологическом плазменном реакторе для магнетронного напыления функциональных покрытий с ионным стимулированием Никонов Александр Михайлович

brief description

Никонов, Александр Михайлович.
Физические процессы в технологическом плазменном реакторе для магнетронного напыления функциональных покрытий с ионным стимулированием : диссертация ... кандидата физико-математических наук : 01.04.08 / Никонов Александр Михайлович; [Место защиты: Моск. гос. ун-т им. М.В. Ломоносова]. - Москва, 2019. - 131 с. : ил.
Оглавление диссертациикандидат наук Никонов Александр Михайлович
Введение
Актуальность темы
Цель диссертационной работы
Задачи диссертационной работы
Научная новизна
Достоверность полученных результатов
Практическая ценность результатов
Основные положения диссертации, выносимые на защиту
Апробация диссертации
Публикации
Личный вклад автора
Структура и объём диссертации
Содержание работы
Глава 1. Обзор литературы
1.1 Ионное стимулирование в современной промышленности
1.2 Индуктивные ВЧ разряды
1.3 Геликонные и косые ленгмюровские волны
1.4 История исследования геликонных волн
1.5 Геликонные источники плазмы
1.6 Исследования механизма поглощения ВЧ мощности
1.7 Роль косых ленгмюровских волн в поглощении ВЧ мощности
1.8 Другие исследования эффективного поглощения волн в геликонной плазме
1.9 Исследование структуры волн в плазме
1.10 Практическое применение геликонных источников плазмы
1.11 Возможности оптимизации геликонных ВЧ разрядов
1.12 Физические процессы в двухкамерном источнике плазмы
1.13 Постановка задачи
Глава 2. Экспериментальная установка и методика измерений
2.1 Экспериментальная установка
2.2 Методика измерений
2.2.1 Методика измерения эквивалентного сопротивления
2.2.2 Методика измерения ионного тока
2.2.3 Методика измерения параметров плазмы зондами Ленгмюра
2.2.4 Методика спектральных измерений
2.2.5 Методика измерения ВЧ магнитного поля
2.2.6 Методика измерения ВЧ электрического поля
2.2.7 Условия эксперимента
Глава 3. Экспериментальные исследование физических процессов в цилиндрическом индуктивном источнике плазмы с внешним магнитным полем
3.1. Особенности индуктивного ВЧ разряда, наблюдаемые при изменении индукции магнитного поля
3.2 Поглощение ВЧ мощности
3.3 Структура ВЧ полей в индуктивном источнике плазмы, помещенном во внешнее магнитное поле
3.4 Параметры плазмы в цилиндрическом индуктивном источнике плазмы
3.5 Обсуждение полученных результатов
Глава 4 Исследование комбинированного разряда, основанного на совместном использовании ВЧ индуктивного разряда и разряда постоянного тока
4.1 Вольтамперная характеристика канала постоянного тока
4.2 Вложение ВЧ мощности
4.3 Параметры плазмы
4.4 Структура ВЧ волн
Глава 5 Параметры плазмы в технологической установке для напыления покрытий с ионным стимулированием
5.1 Изучение параметров плазмы и возможности оптимизации технологического плазменного реактора
5.2 Исследования параметров плазмы при совместной работе магнетронного и газоразрядного источников
5.3 Изучение структуры напылённых покрытий
Заключение
Список литературы:
Список опубликованных статей по теме диссертации (Scopus, Web of Science и RSCI)
Прочие опубликованные статьи
Введение