Динамическая теория диффузного рассеяния излучений в кристаллах с дефектами кулоновского типа Олиховский, Степан Иосифович

brief description

Олиховский, Степан Иосифович.
Динамическая теория диффузного рассеяния излучений в кристаллах с дефектами кулоновского типа : диссертация ... кандидата физико-математических наук : 01.04.07. - Киев, 1984. - 147 с. : ил.
Оглавление диссертациикандидат физико-математических наук Олиховский, Степан Иосифович
ВВЕДЕНИЕ.
ГЛАВА I. ДШАШКЕСШ ТЕОРШ ДЙМШЮГО РАССЕЯНШ
ИЗЯУЧЕНШ В НЕВДЕАЛЪНЫХ КРИСТАЛЛАХ (ОБЗОР).
1.1. Общие замечания.
1.2. Тепловое диффузное рассеяние.
1.3. Диффузное рассеяние на статических искажениях . 19 1.4 Метод трехкристальной рентгеновской дифрактометрии.
1.5. !&ртины Кикучи.
1.6. Выводы.
ГЛАВА 2. ОБЩЕТЕОРЕТИЧЕСКИЕ ВОПРОСЫ ОПВДЕЛЕНШ АМПЛИТУДЫ И ЖТЕНСИШОСТИ ДШАМИЧЕСЮГО ДШУЗНО
ГО РАССЕЯНШ ЭЛЕКТРОНОВ И РЕНТГЕНОВСКИХ ЛУЧЕЙ В КРИСТАЛЛАХ С ДЕФЕКТАМИ.
2.1. Основные уравнения и амплитуда рассеяния.
2.2. Одноволновой случай дифракции: диффузный фон в одноволновом направлении.
2.2.1. Вычисление амплитуды диффузного рассеяния в различных представлениях.
2.2.2. Эквивалентность метода плоских волн и метода волновых мод
2.2.3. Сравнение с кинематической теорией.
2. 3. Одноволновой случай дифракции: диффузный фон в двухволновом направлении (линии Кикучи).
2.3Л. Вычисление амплитуды диффузного рассеяния . 57 2.3.2. Интенсивность линий и полос Кикучи при рассеянии в неупорядоченных твердых растворах . 64 2. 4. Выводы
131АВА 3. ИНТЕНСИВНОСТЬ ДШФУШОГО РАССЕЯНШ В ДВУХ
ВОЛНОВОМ СЛУЧАЕ ДШРАКЦИИ ПО БРЭГГУ.
3.1. Амплитуда диффузного рассеяния и потенциал кристалла, содержащего дефекты кулоновского типа
3.2. Поле упругих смещении дефекта кулоновского типа в ограниченном кристалле
3.3. Интенсивность диЩгзного рассеяния с учетом и без учета "сил зеркального изображения".
3.4. Профили интенсивности, изодиЗ&фузные линии и их связь с характеристиками дефектов.
3.5. Выводы.
ГЛАВА 4. ИНТЕНСИВНОСТЬ ДШФУШОГО РАССЕЯНШ В ДВУХ
ВОЛНОВОМ СЛУЧАЕ ДШРАКЦИИ ПО ЛАУЭ.
4.1. Вычисление интенсивности диффузного рассеяния
4.2. Зависимость профилей интенсивности ди|)фузного рассеяния от толщины кристалла и характеристик дефектов.
4.2.1. Случаи тонкого и толстого кристаллов. Эффект аномального прохождения диффузно рассеянных лучей
4.2.2. Вклады процессов внутриветвевого и мекветвевого рассеяний в профили интенсивности.
4.3. Изодлффузные линии и их характерные особенности, связанные с динамическими эффектами и характеристиками дефектов. III
4.3.1. Изоди|)фузше линии в плоскости, перпендикулярной к сильному брэгговскому лучу. III
4.3.2. ИзодЕффузные линии в плоскости рассеяния.
4. 4. Интенсивность ди!Фузного рассеяния в неупорядоченных твердых растворах.
4,5. Выводы.^.