Рост и структура барьерных слоев MgO и YSZ для ориентированных пленок ВТСП Исаев, Александр Юрьевич

brief description

Исаев, Александр Юрьевич.
Рост и структура барьерных слоев MgO и YSZ для ориентированных пленок ВТСП : диссертация ... кандидата физико-математических наук : 01.04.07. - Воронеж, 1999. - 138 с.
Оглавление диссертациикандидат физико-математических наук Исаев, Александр Юрьевич
ОГЛАВЛЕНИЕ
ВВЕДЕНИЕ
ГЛАВА 1. ОРИЕНТИРОВАННЫЙ РОСТ ПЛЕНОК (ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР)
1.1. Ориентированный рост на поверхности монокристаллов
1.1.1. Общие закономерности сопряжения кристаллических решеток и ориентация пленок
1.1.2. Природа множественности ориентаций
1.1.3. Пути подавления сопутствующих ориентаций
1.2. Ориентированный рост на неориентирующих аморфных подложках
1.2.1. Природа аксиальных текстур
1.2.2. Искусственная эпитаксия
1.2.3. Облучение растущей пленки пучком ионов с низкой энергией (1В АО-метод)
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
ГЛАВА 2. СПОСОБЫ (МЕТОДЫ) ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОЧНЫХ
ОБРАЗЦОВ, МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЯ И МАТЕРИАЛЫ
2.1. Методы нанесения пленок
2.1.1. Термическое испарение
2.1.2 Электронно-лучевое испарение
2.1.3. Лазерное испарение
2.1.4. Осаждение тонких пленок при одновременном облучении подложки ионным пучком (1ВАЕ))
Мишень
Держатель подложек
Параметры осаждения
2.2 Методы исследования
2.2.1 Просвечивающая электронная микроскопия
2.2.2. Подготовка образцов для просвечивающей электронной микроскопии
Подготовка "plan view" образцов
Подготовка "cross-section" образца
2.2.3. Рентгеновская дифракция
9-29-сканирование
а-сканирование
ф-сканирование
Измерение биаксиальной текстуры с помощью 4-х кругового дифрактометра
2.2.4. Исследование сверхпроводящих свойств
2.3. Используемые материалы
2.3.1. Подложки
3.2.2. Электрохимическая полировка никелевых лент
2.3.3. Оксид циркония, стабилизированный оксидом иттрия (YSZ)
2.3.4. YBa2Cu307-x
ГЛАВА 3. РЕЗУЛЬТАТЫ ИССЛЕДОВАНИЯ И ИХ ОБСУЖДЕНИЕ
ЗЛ. Ориентация, морфология и субструктура пленок MgO на поверхностях (001) и (11 l)Si
3.2. Ориентация, морфология и субструктура пленок MgO на монокристаллических фольгах (001) Ni
3.3. Рост пленок YSZ с двухосной текстурой
3.3.1. Пленки YSZ на неориентирующих подложках
3.3.2. Влияние типа подложки на азимутальную текстуру пленок YSZ
3.3.3. Рост пленок YSZ на монокристаллических поверхностях YSZ
3.4. Обсуждение результатов исследования роста пленок YSZ при IBAD
3.4.1. Гомоэпитаксиальный рост пленок
3.4.2. Образование зародышевого слоя на начальной стадии роста пленки
3.4.3. Селективный рост зерен
3.5. Механизм образования биаксиальной текстуры в пленках
У8г
3.6. Пленки УВаСиО на текстурированных барьерных слоях МДО иУ8г
ОСНОВНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ И ВЫВОДЫ
СПИСОК ИСПОЛЬЗУЕМЫХ ИСТОЧНИКОВ