Твердофазные взаимодействия при термическом окислении структур Me/GaAs и MeO/GaAs (Me = Fe, Co, Ni) Сухочев, Алексей Сергеевич

brief description

Сухочев, Алексей Сергеевич.
Твердофазные взаимодействия при термическом окислении структур Me/GaAs и MeO/GaAs (Me = Fe, Co, Ni) : диссертация ... кандидата химических наук : 02.00.01. - Воронеж, 2005. - 176 с. : ил.
Оглавление диссертациикандидат химических наук Сухочев, Алексей Сергеевич
ВВЕДЕНИЕ.
Глава I. ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР
1.1. Окисление металлов: общие положения
1.2. Особенности окисления металлов триады железа
1.2.1. Кинетика и механизм окисления никеля.
1.2.2. Особенности окисления кобальта
1.2.3. Механизм окисления железа
1.3. Собственное окисление арсенида галлия.
1.4. Граница раздела Ме/АшВу: строение, свойства, процессы
Глава II. МЕТОДИКА ФОРМИРОВАНИЯ, ТЕРМООКСИДИРОВАНИЯ
И ИССЛЕДОВАНИЯ СВОЙСТВ ГЕТЕРОСТРУКТУР
Me/GaAs и McO/GaAs.
2.1. Исходные материалы и предварительная обработка.
2.2. Обзор свойств оксидов металлов триады железа.
2.2.1. Оксиды никеля
2.2.2. Оксиды кобальта
2.2.3. Оксиды железа.
2.2.4. Особенности нестехиометрии некоторых оксидов никеля, кобальта и железа.
2.3. Методика формирования гетероструктур.
2.3.1. Магнетронное распыление.
2.3.2. Вакуумно-термическое испарение
2.4. Методика термического окисления структур.
2.5. Методика обработки результатов.
2.6. Физико-химические методы исследования полученных структур
2.6.1. Метод измерения толщины пленок (эллипсометрия).
2.6.2. Методы мониторинга морфологии поверхности и пленки (АСМ, РЭМ).
2.6.3. Методы исследования химического состава пленок (РФА, ИКС, ЭОС).
2.6.4. Исследование электрофизических характеристик полученных слоев.
Глава III. ФОРМИРОВАНИЕ МНОГОКОМПОНЕНТНЫХ СЛОЕВ ТЕРМИЧЕСКИМ ОКИСЛЕНИЕМ ГЕТЕРОСТРУКТУР Ni (Со, Fe)/GaAs ПРИ МАГНЕТРОННОМ СПОСОБЕ НАПЫЛЕНИЯ.
3.1. Окисление структур Ni(M)/GaAs.
3.2. Окисление структур Со(50 и 25iiM)/GaAs.
3.3. Окисление структур Fe(50 и 25HM)/GaAs.
3.3.1. Анализ неокисленных образцов.
3.3.2. Твердофазные взаимодействия при окислении структур Fe(50 и 25nM)/GaAs.
Глава IV. ТЕРМООКСИДИРОВАНИЕ ГЕТЕРОСТРУКТУР Ni (Co)/GaAs, С ПЛЕНКАМИ ВАКУУМНО-ТЕРМИЧЕСКИ
НАНЕСЕННОГО МЕТАЛЛА.
4.1. Окисление структур Ni(BT)/GaAs.
4.2. Окисление структур Co(BT)/GaAs.
Глава V. ТВЕРДОФАЗНЫЕ РЕАКЦИИ ПРИ ТЕРМИЧЕСКОМ ОКИСЛЕНИИ ГЕТЕРОСТРУКТУР NiO/GaAs и CoO/GaAs:
ВЛИЯНИЕ ТОЛЩИНЫ ОКСИДА.
5.1. Окисление структур Ni0(40 и 25im)/GaAs.
5.2. Окисление структур Со0(70 и 25HM)/GaAs.
Глава VI. МЕХАНИЗМЫ ЭВОЛЮЦИИ ГЕТЕРОСТРУКТУР Me/GaAs и MeO/GaAs ПРИ ИХ ТЕРМИЧЕСКОМ ОКИСЛЕНИИ
Обсуждение результатов).
ВЫВОДЫ