РОЗРОБКА МЕТОДІВ ТА ЗАСОБІВ ВИЗНАЧЕННЯ ПОКАЗНИКІВ ЗАЛОМЛЕННЯ ОПТОЕЛЕКТРОННИХ ЕЛЕМЕНТІВ У ДІАПАЗОНІ ДОВЖИН ХВИЛЬ 400 нм÷10 мм

Короткий опис

НАЦІОНАЛЬНИЙ УНІВЕРСИТЕТ
„Львівська політехніка”

На правах рукопису

АНДРУЩАК Назарій Анатолійович

УДК 53.082.54, 535-14, 535.544, 681.787.2

РОЗРОБКА МЕТОДІВ ТА ЗАСОБІВ ВИЗНАЧЕННЯ
ПОКАЗНИКІВ ЗАЛОМЛЕННЯ ОПТОЕЛЕКТРОННИХ ЕЛЕМЕНТІВ
У ДІАПАЗОНІ ДОВЖИН ХВИЛЬ 400 нм10 мм

05.12.20 оптоелектронні системи

Дисертація
на здобуття наукового ступеня
кандидата технічних наук

Науковий керівник
доктор технічних наук, професор
Бобицький Я.В.

Львів 2012 ЗМІСТ

ВСТУП..........................................................................................................................6
РОЗДІЛ 1 Показник заломлення як фундаментальна величина та його визначення для матеріалів елементів оптоелектронних систем 12
1.1. Показник заломлення як фундаментальна величина. 12
1.1.1. Визначення показника заломлення. 12
1.1.2. Актуальність вимірювання показника заломлення оптоелектронних елементів 13
1.1.3. Заломлення світла на межі двох середовищ. Формули Френеля. 15
1.2. Дисперсія показника заломлення. 17
1.2.1. Визначення дисперсії показника заломлення. 17
1.2.2. Рівняння Селмейера. 20
1.2.3. Співвідношення Крамерса-Кроніга. 21
1.3. Вимірювання показника заломлення у видимому діапазоні довжин
хвиль. 22
1.3.1. Метод еліпсометрії 23
1.3.2. Імерсійний метод. 25
1.3.3. Метод мінімального відхилення. 27
1.4. Вимірювання показника заломлення в міліметровому діапазоні довжин хвиль. 29
1.4.1. Метод дисперсійної Фур’є спектроскопії 29
1.4.2. Метод відкритого резонатора Фабрі-Перо. 31
1.4.3. Cпектрометр „Епсилон”. 34
1.5. Інтерференційний метод. 35
Висновки до розділу 1...............................................................................................39

РОЗДІЛ 2 ВДОСКОНАЛЕННЯ ІНТЕРФЕРОМЕТРИЧНО-ПОВОРОТНОГО МЕТОДУ ВИМІРЮВАНЬ ПОКАЗНИКІВ ЗАЛОМЛЕННЯ У ВИДИМІЙ ОБЛАСТІ СПЕКТРА 40
2.1. Базова схема вимірювання. 40
2.2. Виведення робочих співвідношень та оцінка похибки вимірювання. 44
2.2.1. Врахування показника заломлення середовища, в якому знаходиться вимірювальний зразок. 44
2.2.2. Оцінка похибки визначення показника заломлення оптоелектронних елементів з урахуванням показника заломлення середовища. 46
2.2.3. Розрахунок залежності похибки визначення показника заломлення від довжини хвилі та від товщини і кута повороту зразка. 53
2.3. Конструкторсько-технологічна проробка механічних вузлів. 57
2.3.1. Конструкторська розробка корпусу пристрою, несучої конструкції інтерферометра та принципів їх механічної розв’язки. 57
2.3.2. Вибір принципів кріплення оптичних елементів інтерферометра та їх юстування 61
2.4. Автоматизація процесу вимірювання показника заломлення оптоелектронних елементів з використанням засобів сучасної електроніки. 65
2.4.1. Вдосконалення електронної схеми керування механізмом обертання вимірюваного зразка. 65
2.4.2. Вдосконалення методики реєстрації зсуву інтерференційної картини та запису відповідної інформації 68
2.5. Постановка експерименту та аналіз результатів. 69
Висновки до розділу 2...............................................................................................73

РОЗДІЛ 3 Розробка методІВ, Експериментальних установок ТА ЗАСОБІВ для визначення показників заломлення матеріалів в міліметровому чи субтерагерцовому діапазонах хвиль. 75
3.1. Розробка засобів вимірювань та структурна схема експериментальної установки для міліметрового діапазону довжин хвиль. 75
3.1.1. Розрахунок та виготовлення лінз для міліметрового діапазону хвиль. 80
3.1.2. Виготовлення поляризатора, аналізатора та подільників пучка. 83
3.1.3. Розробка та технічне впровадження механічних вузлів схеми. 85
3.2. Приймач та передавач електромагнітного випромінювання в міліметровому діапазоні довжин хвиль. 87
3.3. Юстування експериментальної інтерферометричної установки.

Список літератури

1. Використання інтерферометрично-поворотного методу розширено на випадок кли­но­видних оптоелектронних елементів. Отримані аналітичні співвід­ношення враховують заплановану клино­вид­ність або не­­минучу неконт­рольовану непаралельність поверхонь досліджуваних зраз­ків, що дало змо­гу в розра­хун­ку по­каз­ників заломлення оптоелектрон­них елементів позбу­тися сис­те­ма­тич­­них похибок, які сягають δnсист=1,6×101; 2,4·103 або 1,9·104 за умов непаралельності вхідних граней зразків, рівної 1°, 1′ або 5′′, відповідно.
2. Встановлені аналітичні співвідношення для розрахунку показників заломлення оп­тоелектронних елементів враховують заломлюючі властивості повітря, що дало змогу усунути систематичну похибку, яка для видимого діапазону спектра не є нехтовно малою і становить δnсист=7·105.
3. На основі модернізованого інтерферометрично-поворотного методу та розроблених засобів вимірювань створено та апробовано експериментальні установки, що забезпечують неруйнівне визначення у видимому і міліметровому діапазонах довжин хвиль показників заломлення плоско-паралельних або клиновидних ізотропних і анізотропних оптоелектронних елементів, які є придатними для наступного прикладного застосування.
4. Розроблено спрощений інтерференційний метод, який полягає у формуванні ін­терференційного мінімуму в пам’яті век­тор­ного аналізатора спектра шляхом лі­нійного переміщення приймача елект­ро­маг­нітного випромінювання із подальшим ви­мірюванням зсуву цього мінімуму при внесенні досліджуваного зразка в робо­чий канал, що дало змогу позбутися опорного каналу та спростити процес вимірювань. На цій основі створено відповідну експериментальну установку для вимірювань показників заломлення матеріалів у субтерагерцовому діапазоні (50 500ГГц) та проведено апробацію методу на прикладі оптичного скла.
5. Розроблено програмно-апаратний комплекс керування експериментом і
опрацювання результатів вимірювання з використанням обладнання для обробки сигналів компанії National Instruments” та інженерного середовища National Inst­ru­ments Lab­VIEW. На основі проведених експериментів продемонстровано ви­соку точність вимірювань у досліджених спектральних діапазонах. Оцінена нами тривалість од­ного вимірювання, яка не перевищує 5хв., підтверджує можливість проведення експрес-аналізу досліджуваних оптоелектронних елементів.
6. Оцінено похибки визначення показників заломлення за модернізованим інтерферомет­рично-поворотним методом. Встановлено, що для видимого діапазону за фі­зично досяжних умов експерименту похибка становить 3,5·106, а на практиці було досягнуто значення 2·104. У діапазоні міліметрових довжин хвиль розраховані для різних поляризацій світла похибки визначен­ня показників заломлення оптоелектронних елементів інтерферометрично-поворотним методом за фі­зично досяжних умов експерименту є 6,8·103 і 4,4·103. Програмно-апа­ратне забезпечення, використане в роботі, забезпечило експериментальну похибку визначення показника заломлення 2×102.
7. Наявну базу даних для параметрів оптоелектронних матеріалів доповнено ре­зуль­та­тами, одержаними на основі розроблених методів і засобів. Зокрема, інтерферометрично-поворотним методом на частоті 33 ГГц за кімнатної темпе­ратури впер­ше визначено показники заломлення оптичного скла (n=1,53 0,02), кварцу (n=2,12 0,02), сапфіру (n=3,11 0,03) і евлітину (n=2,02 0,02).
8. Використовуючи створену нами інтерферометрично-поворотну установку та позбувшись усіх згаданих вище систематичних похибок, уточнено значення показників заломлення досліджуваних зразків із ніобату літію та кристалічного кварцу, які для довжини хвилі λ=0,6328мкм та кімнатної температури становлять відповідно no=2,2868±0,0002, ne=2,2032±0,0002 та no=1,5436±0,0005, ne=1,5527±0,0005.

СПИСОК ВИКОРИСТАНИХ ДЖЕРЕЛ
1. БорнМ. Основы оптики / М.Борн, Э.Вольф. М.: Наука, 1970. 660c.
2. Физика / [М.В.Белоус, В.Н.Васковская, Л.В.Воронецкая, Ю.Л.Мент­ков­ский]. К.: Вища школа. Головное изд-во, 1983. 360с.
3. ЯворськийБ.М. Справочник по физике для инженеров и студентов вузов / Б.М.Яворський, А.А.Детлаф. М.: Наука, 1965. 848с.
4. КалитеевськийН.И. Волновая оптика / Н.И.Калитеевський. М.: Наука, 1971. 376с.
5. ScullyM. Quantum Theory of an Optical Maser. I. General Theory/M.Scully // Phys. Rev. 1967. Vol.159. P.208226.
6. FrankenP. Generation of Optical Harmonics / P.Franken // Phys. Rev. Lett. 1961. Vol.7. P.118119.
7. MakerP. Effects of Dispersion and Focusing on the Production of Optical Harmonics / P.Maker // Phys. Rev. Lett. 1962. Vol.8. P.2122.
8. GiordmaineJ. Mixing of Light Beams in Crystals / J.Giordmaine // Phys. Rev. Lett. 1962. Vol.8. P.1920.
9. TerhuneR. Optical Harmonic Generation in Calcite / R.Terhune // Phys. Rev. Lett. 1962. Vol.8. P.404406.
10. KleinmanD. Theory of Second Harmonic Generation of Light / D.Kleinman // Phys. Rev. 1962. Vol.128. P.17611775.
11. FrankenP. Optical Harmonics and Nonlinear Phenomena / P.Franken // Rev. Mod. Phys. 1963. Vol.35. P.2339.
12. ArmstrongJ. Interactions between Light Waves in a Nonlinear Dielectric / J.Armstrong // Phys. Rev. 1962. Vol.127. P.19181939.
13. Optoelectronic refractive index measurements: application to smart processing / A.Cusano, A.Cutolo, M.Giordano, L.Nicolais // Sensors Journal IEEE. 2003. Vol.3. P.781787.
14. GervaisF. Optical conductivity of oxides / F.Gervais // Materials Science and Engineering: R: Reports. 2002. Vol.39. P.2992.
15. ГоджаевН.М. Оптика / Н.М.Годжаев. М.: Высш. школа, 1977. 432с.
16. БутиковЕ.И. Оптика / Е.И.Бутиков. М.: Высш. школа, 1986. 512с.
17. Refractive index and material dispersions of multi-component oxide glasses / T.Mito, S.Fujino, H.Takebe, K.Morinaga, S.Todoroki, S.Sakaguchi // J. Non-Crystalline Solids. 1997. Vol.210, No2-3. P.155162.
18. GhoshG. Sellmeier coefficients for the birefringence and refractive indices of ZnGeP2 nonlinear crystal at different temperatures / G.Ghosh // Appl. Opt. 1998. Vol.37. P.12051212.
19. MorrisseyB.W. Interpolation of refractive index data / B.W.Morrissey, C.J.Powell // Appl. Opt. 1973. Vol.12. P.15881591.
20. BharG.C. Refractive index interpolation in phase-matching / G.C.Bhar // Appl. Opt. 1976. Vol.15. P.305307.
21. MarquardtD.W. An algorithm for least-squares estimation of nonlinear parameters / D.W.Marquardt // J. Soc. Indust. Appl. Math. 1963. Vol.11.P.431441.
22. BoydG. Linear and nonlinear optical properties of AgGaS2, CuGaS2, and CuInS2, and theory of the wedge technique for the measurement of nonlinear coefficients / G.Boyd, H.Kasper, J.McFee // IEEE J. Quantum Electronics. 1971.Vol.7. P.563 573.
23. Linear and nonlinear optical properties of some ternary selenides / G.Boyd, H.Kasper, J.McFee, F.Storz // IEEE J. Quantum Electronics. 1972.Vol.8. P.900 908.
24. BoydG.D. Linear and nonlinear optical properties of ZnGeP2 and CdSe / G.D.Boyd // Appl. Phys. Lett. 1971. Vol.18. P.301.
25. RoesslerD.M. Kramers-Kronig analysis of reflection data / D.M.Roessler // Br. J. Appl. Phys. 1965. Vol.16. P.11191123.
26. BodeH.W. Network Analysis and Feedback Amplifier Design / H.W.Bode. New York: Van Nostrand, Princeton, 1945. 551pp.
27. FujiwaraH. Spectroscopic Ellipsometry: Principles and Applications / H.Fujiwara. Chichester, UK: John Wiley & Sons, Ltd, 2007. 361pp.
28. SoS.S. Generalized ellipsometric method for the absorbing substrate covered with a transparent-film system. Optical constants of silicon at 3655Å / S.S.So, K.Vedam // J. Opt. Soc. Am. 1972. Vol.62. P.1623.
29. StenbergM. A new ellipsometric method for measurements on surfaces and surface layers / M.Stenberg, T.Sandström, L.Stiblert // Materials Science and Engineering. 1980. Vol.42. P.6569.
30. BortchagovskyE.G. Ellipsometric method for investigation of the optical anisotropy of thin films: theory and calculations / E.G.Bortchagovsky // Thin Solid Films. 1997. Vol.307. P.192199.
31. Ellipsometry as a high-precision technique for subnanometer-resolved monitoring of thin-film structures / V.Shvets, E.Spesivtsev, S.Rykhlitskii, N.Mikhailov // Nanotechnologies in Russia. 2009. Vol.4. P.201214.
32. PristinskiD. Determination of film thickness and refractive index in one measurement of phase-modulated ellipsometry / D.Pristinski, V.Kozlovskaya, S.A.Sukhishvili // J. Opt. Soc. Am. A. 2006. Vol.23. P.2639.
33. Accurate ellipsometric measurement of refractive index and thickness of ultrathin oxide film / B.M.Ayupov, V.A.Gritsenko, H.Wong, C.W.Kim // J. Electrochem. Soc. 2006. Vol.153, No12. P.F277F282.
34. DrudeP. Ueber Oberflächenschichten. I. Theil / P.Drude // Annalen der Physik. 2006. Vol.272. P.532560.
35. DrudeP. Ueber Oberflächenschichten. II. Theil / P.Drude // Annalen der Physik. 2006. Vol.272. P.865897.
36. DrudeP. Ueber die Gesetze der Reflexion und Brechung des Lichtes an der Grenze absorbirender Krystalle / P.Drude // Annalen der Physik. 2006. Vol.268. P.584625.
37. WinterbottomW. Determination of the anisotropy of surface energy of metals I: Theoretical analysis / W.Winterbottom, N.Gjostein // Acta Metallurgica. 1966. Vol.14. P.10331040.
38. JaspersonS.N. A modulated ellipsometer for studying thin film optical properties and surface dynamics / S.N.Jasperson, D.K.Bürge, R.C.O’Handley // Surface Science. 1973. Vol.37. P.548558.
39. DresselM. Verifying the Drude response / M.Dressel, M.Scheffler // Annalen der Physik. 2006. Vol.15. P.535544.
40. KauffmanA.M. A simple immersion method to determine the refractive index of thin silica films / A.M.Kauffman // Thin Solid Films. 1967. Vol.1. P.131136.
41. OhlídalI., NavrátilK. Optical analysis of non-absorbing double layers by means of immersion reflectometry I: Liquid immersion method / I.Ohlídal, K.Navrátil // Thin Solid Films. 1980. Vol.67. P.245251.
42. FaickC.A. Precision apparatus for the rapid determination of indices of refraction and dispersion by immersion / C.A.Faick, B.A.Fonoroff // J. Opt. Soc. Am. 1944. Vol.34. P.330335.
43. BillmeyerF.W. Measurements of the refractive index of films / F.W.Billmeyer // J. Appl. Phys. 1947. Vol.18. P.431434.
44. CherkasovY.A. Application of ‘Focal Screening’ to measurement of indices of refraction by the immersion method / Y.A.Cherkasov // International Geology Review. 1960. Vol.2. P.218235.
45. RobinsonD.A. Measurement of the solid dielectric permittivity of clay minerals and granular samples using a time domain reflectometry immersion method / D.A.Robinson // Vadose Zone Journal. 2004. Vol.3. P.705713.
46. РоманюкМ.О. Кристалооптика: Навчальний посібник / М.О.Рома­нюк Київ: ІЗМН, 1997. 432с.
47. WestC.D. Immersion liquids of high refractive index / C.D.West // American Mineralogist. 1936. Vol.21. P.245249.
48. KaiserE.P. Preparation of immersion liquids / E.P.Kaiser, W.Parrish // Ind. Eng. Chem. Anal. Ed. 1939. Vol.11. P.560562.
49. A simple method for the determination of refractive indices of (rough) transparent solids / R.J.Nussbaumer, M.Halter, T.Tervoort, W.R.Caseri, P.Smith // J. Mater. Sci. 2005. Vol.40. P.575582.
50. NiskanenI. Measurement of refractive index of isotropic particles by incorporating a multifunction spectrophotometer and immersion liquid method / I.Niskanen, J.Räty, K.-E.Peiponen // Appl. Opt. 2007. Vol.46. P.5404.
51. OjenaS.M., DeForestP.R. Precise refractive index determination by the immer­sion method, using phase contrast microscopy and the mettler hot stage / S.M.Oje­na, P.R.DeForest // J. Forensic Sci. Soc. 1972. Vol.12. P.315329.
52. OnoderaH. Refractive-index measurement of bulk materials: prism coupling method / H.Onodera, I.Away, J.Ikenoue // Appl. Opt. 1983. Vol.22. P.11941197.
53. Absolute Refractive Indices and Thermal Coefficients of Fused Silica and Cal­cium Fluoride Near 193 nm / R.Gupta, J.H.Burnett, U.Griesmann, WalhoutM. // Appl. Opt. 1998. Vol.37. P.59645968.
54. BurnettJ.H. Absolute refractive indices and thermal coefficients of CaF2, SrF2, BaF2, and LiF near 157 nm / J.H.Burnett, R.Gupta, U.Griesmann // Appl. Opt. 2002. Vol.41. P.25082513.
55. Determination of complex refractive index of polystyrene microspheres from 370 to 1610 nm / X.Ma, Q.L.Lu, S.R.Brock, K.M.Jacobs, P.Yang, X-H.Hu // Physics in Medicine and Biology. 2003. Vol.48. P.41654172.
56. MarpleD.T.F. Refractive index of ZnSe, ZnTe, and CdTe / D.T.F.Marple // J. Appl. Phys. 1964. Vol.35. P.539542.
57. BondW.L. Measurement of the refractive indices of several crystals / W.L.Bond // J. Appl. Phys. 1965. Vol.36. P.1674 1677.
58. FreyB.J. Temperature-dependent refractive index of silicon and germanium / B.J.Frey, D.B.Leviton, T.J.Madison // Optomechanical Technologies for Astronomy: Proceedings of SPIE. Orlando, Fla, (USA) May 2006. Vol.6273.Р.11171127.
59. SinghS. Refractive index measurement and its applications / S.Singh // Phys. Scr. 2002. Vol.65. P.167180.
60. Direct measurement of ZnGeP2 birefringence from 0.66 to 12.2 mm using polarized light interference / D.W.Fischer, M.C.Ohmer, P.G.Schunemann, T.M.Pollak // J. Appl. Phys. 1995. Vol.77. P.59425945.
61. ScheelH.J. Historical aspects of crystal growth technology / H.J.Scheel // J. Crystal Growth. 2000. Vol.211. P.112.
62. ChenS. Dielectric-parameter measurements of SiC at millimeter and sub­milli­meter wavelengths. Instrumentation and measurement / S.Chen, M.N.Afsar, D.Sakdatorn // IEEE Transactions. 2008. No57. P.706715.
63. ChamberlainJ. The determination of refractive index spectra by Fourier spectrometry / J.Chamberlain, J.E.Gibbs, H.A.Gebbie // Infrared Physics. 1969 Vol.9. P.185209.
64. Determination of the complex refractive indices of solids in the far-infrared by dispersive Fourier transform spectroscopy I. Alkali halides / K.F.Pai, T.J.Par­ker, N.E.Tornberg, R.P.Lowndes, W.G.Chambers // Infrared Physics. 1978. Vol.18. P.199214.
65. ParkerT.J. Dispersive Fourier transform spectroscopy / T.J.Parker // Contem­porary Physics. 1990. Vol.31. P.335353.
66. BirchJ.R. Dispersive Fourier transform spectroscopy / J.R.Birch // Micro­chimica Acta. 1987. Vol.93. P.105122.
67. HyblJ.D. Two-dimensional Fourier transform electronic spectroscopy / J.D.Hybl, A.A. Ferro, D.M.Jonas // J. Chemical Phys. 2001. Vol.115. P.66066622.
68. AfsarM.N. Precise millimeter-wave measurements of complex refractive index, complex dielectric permittivity and loss tangent of GaAs, Si, SiO2, Al2O3, BeO, macor, and glass / M.N.Afsar, K.J.Button // Microwave Theory and Tech­ni­ques, IEEE Transactions. 1983. No31. P.217223.
69. Introduction to spectroscopy. Fourth edition / D.L.Pavia, G.M.Lampman, G.S.Kriz, J.R.Vy­vyan. Cengara Learning, 2009. 728pp.
70. SmithB. Fundamentals of Fourier transform infrared spectroscopy. Second edition / B.Smith.Taylor & Francis Group, CRC Press, 2011. 181pp.
71. AfsarM.N. Millimeter wave complex refractive index, complex dielectric per­mit­tivity and loss tangent of extra high purity and compensated silicon / M.N.Afsar, H.Chi // Int. J. Infrared and Millimeter Waves. 1994. Vol.15. P.11811188.
72. AfsarM.N. Measurement of transmittance and permittivity of dielectric materials using dispersive Fourier transform spectroscopy / M.N.Afsar, Y.Wang, A.Moon­shiram // Microwave and Optical Technology Letters. 2003. Vol.38. P.2730.
73. AfsarM.N. A new 60GHz open-resonator technique for precision permittivity and loss-tangent measurement / M.N.Afsar, H.Ding, K.Tourshan // Instru­mentation and Measurement, IEEE Transactions. 1999. No48. P.626630.
74. Temperature-insensitive miniaturized fiber inline Fabry-Perot interferometer for highly sensitive refractive index measurement / T.Wei, Y.Han, Y.Li, H.-L.Tsai, H.Xiao // Opt. Express. 2008. Vol.16. P.5764.
75. GillenG. Use of Michelson and Fabry-Perot interferometry for independent determination of the refractive index and physical thickness of wafers / G.Gillen, S.Guha // Appl. Opt. 2005. Vol.44. P.344347.
76. YuP.K. Measurement of permittivity by jeans of an open resonator / YuP.K., A.L.Cullen // I. Theoretical. Proc. R. Soc. Lond. A. 1982. Vol.380. P.4971.
77. ClarkeR.N. Fabry-Perot and open resonators at microwave and millimetre wave frequencies, 2-300 GHz / R.N.Clarke, C.B.Rosenberg // J. Phys. E: Scientific Instruments. 1982. Vol.15. P.924.
78. CullenA.L. Improvements in the beam-wave theory of the open resonator / A.L.Cullen // Electronics Lett. 1975. Vol.11. P.344345.
79. NagenthiramP. A microwave barrel resonator for permittivity measurements on dielectric rods / P.Nagenthiram, A.L.Cullen // Proceedings of the IEEE. 1974. Vol.62. P.16131614.
80. CullenA.L. Complex source-point theory of the electromagnetic open resonator / A.L.Cullen, P.K.Yu // Proc. R. Soc. Lond. A. 1979. Vol.366. P.155171.
81. AfsarM.N. An automated 60 GHz open resonator system for precision dielectric measurements / M.N.Afsar, X.Li, H.Chi // Microwave Theory and Techniques, IEEE Transactions. 1990. No38. P.18451853.
82. Tuneable FabryPerot etalon for terahertz radiation / S.A.Jewell, E.Hen­dry, T.H.Isaac, J.R.Sambles // New J. Phys. 2008. Vol.10. P.033012.
83. VaughanM. The Fabry-Perot Interferometer: History, Theory, Practice and Appli­cations / M.Vaughan. Taylor & Francis, Inc., 1989. 604pp.
84. AfsarM.N. A novel open-resonator system for precise measurement of permit­tivity and loss-tangent / M.N.Afsar, H.Ding // Instrumentation and Measure­ment, IEEE Transactions. 2001. No50. P.402405.
85. KozlovG. Coherent source submillimeter wave spectroscopy / Millimeter and sub­millimeter wave spectroscopy of solids. Topic in Applied Physics Vol.74 / KozlovG., VolkovA. / Ed. G.Grüner. Springer, 1998. P.51-109.
86. Methods of terahertz-subterahertz BWO spectroscopy of conducting materials / B.Gorshunov, A.Volkov, A.Prokhorov, I.Spektor // Phys. Solid State. 2008. Vol.50. P.20012012.
87. Terahertz BWO-Spectrosopy / A.Volkov, I.Spektor, A.Prokhorov, A.Mukhin, M.Dressel, S.Uchida, A.Loidl // International Journal of Infrared and Millimeter Waves. 2005. Vol.26, No9. P.12171240.
88. Субмиллиметровый спектрометр ‘Эпсилон’ [Електронний ресурс]. М:Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН. Режим доступу до журн. : http://www.submm.gpi.ru.
89. MillerG.A. The San Francisco section of the American mathematical society / G.A.Miller // Science. 1903. Vol.17. P.860861.
90. ProctorC. Index of refraction and dispersion with the interferometer / C.Proctor // Phys. Rev. (Series I). 1907. Vol.24. P.195201.
91. Interferometric measurement of refractive indices / K.Betzler, A.Gröne, N.Schmidt, P.Voigt // Review of Scientific Instruments. 1988. Vol.59. P.652653.
92. AlexandrovS.A. Interference method for determination of the refractive index and thickness / S.A.Alexandrov, I.V.Chernyh // Opt. Engineer. 2000. Vol.39. P.24802486.
93. IkramM. Michelson interferometer for precision angle measurement / M.Ikram, G.Hussain // Appl. Opt. 1999. Vol.38. P.113120.
94. БулгаковаС.А. Волоконный интерферометр Маха-Цендера для измерений спектральных характеристик одночастотных полупроводниковых лазеров диапазона 1,32мкм и 1,55мкм / С.А.Булгакова, А.Л.Дмитриев // Опти­ческий журнал. 2008. Vol.75. P.4953.
95. Modified Michelson interferometer for probing refractive index of birefringent crystal CSBN50 / J. Zhang, J. Q. Xu, C. Y. Gao, S. C. Si // Optics and Lasers in Engineering. 2009. Vol. 47, No 11. P. 12121215.
96. ShumateM.S. Interferometric determination of the principal refractive indices of Barium Titanate single crystals / M.S.Shumate // Appl. Phys. Lett. 1964. Vol.5. P.178179.
97. ShakherC. A review on refractive index and temperature profile measurements using laser-based interferometric techniques / C.Shakher, A.K.Nirala // Opt. & Lasers Engineer. 1999. Vol.31. P.455491.
98. Refractive-index measurements using an integrated Mach-Zehnder interferometer / T.Schubert, N.Haase, H.Kück, R.Gottfried-Gottfried // Sensors and Actuators A: Physical 60. 1997. P.108112.
99. ShumateM.S. Interferometric measurement of large indices of refraction / M.S.Shumate // Appl. Opt. 1966. Vol.5. P.327331.
100. NichollsJ.F. Accurate determination of the indices of ref­rac­tion of nonlinear optical crystals / J.F.Nicholls, B.Henderson, B.H.Chai // Appl. Opt. 1997. Vol.36. P.85878594.
101. McKeeD.J. Interferometric measurement of refractive index / D.J.McKee, J.F.H.Nicholls, I.S.Ruddock // European J. Phys. 1995. Vol.16. P.127134.
102. АндрущакА.С. Измерение показателей преломления изотропних и крис­тал­лических материалов интерферометрическим методом / А.С.Андрущак, Б.Г.Мыцык // Измерительная техника. 1992. №5 С.3334.
103. Пат. 2102700 Российская Федерация G 01 B 9/02, G 01 N 21/45. Двухлучевой интерферометр для измерения показателя преломления изотропных и анизотропных материалов / Андрущак А. С.; заявитель и патентообладатель: Андрущак А. С. №5006682/28; заявл. 30.07.91; опубл. 20.01.98, Бюл. №2.
104. An accurate method for refractive index measurements of liquids using two Michelson laser interferometers / J.M.St-Arnaud, J.Ge, J.Orbriot, T.K.Bose, P.Marteau // Rev. Sci. Instruments. 1991. Vol.62. P.14111414.
105. Пат. №39155 Україна, МПК G01N 21/01. Інтерферометрично-поворотний спосіб вимірювання показника заломлення оптичних матеріалів / Андрущак А. С., Тибінка Б. В., Андрущак Н. А., Думич С. С. №u2008 10203; заявл. 08.08.2008; опубл. 10.02.2009, Бюл. №3.
106. Пат. №35224 Україна, МПК G01N 22/00. Інтерферометрично-поворотний пристрій для вимірювання показника заломлення ізотропних та анізотропних матеріалів в діапазоні міліметрових та сантиметрових довжин хвиль / Андрущак А. С., Сиротинський О. І., Андрущак Н. А., Ящишин Є. М. №u2008 04095; заявл. 01.04.2008; опубл. 10.09.2008, Бюл. №17.
107. DennisT. Interferometric measurement of refractive-index change in photosensitive glass / T.Dennis, E.M.Gill, S.L.Gilbert // Appl. Opt. 2001. Vol.40. P.16631667.
108. HoplerM.D. Interferometric measurement of group and phase refractive index / M.D.Hopler, J.R.Rogers // Appl. Opt. 1991. Vol.30. P.735744.
109. A MachZehnder interferometric system for measuring the ref­rac­tive indices of uniaxial crystals / S.De Nicola, P.Ferraro, A.Finizio [et al.] // Opt. Commun. 2002. Vol.202, Iss.1-3. P.915.
110. РябчійВ.А. Теорія похибок вимірювань / В.А.Рябчій, В.В.Рябчій. Донецьк: Національний гірничий університет, 2006. 166c.
111. КрупелаЛ.М. Математична обробка геодезичних вимірів: конспект лек­цій / Л.М.Крупела. Чернівці: Чернівецький нац. ун-т, 2010. 119c.
112. КоломийцовЮ.В. Интерферометры. Основы инженерной теории, применение / Ю.В.Коломийцов. Л.: Машиностроение, 1976. 296c.
113. МищенкоЮ.В. Метод измерения показателя преломления стеклянных пластин / Ю.В.Мищенко. Измерительная техника, 1990. №8 C.3941.
114. Maruyama T. Aluminum oxide thin films prepared by chemical vapor deposition from aluminum acetylacetonate / T. Maruyama, S. Arai // Applied Physics Letters. ­ 1992. Vol. 60, Iss. 3. P. 322 323.
115. Gordon R. Chemical vapor deposition of coatings on glass / R. Gordon // Journal of Non-Crystalline Solids. ­ 1997. Vol. 218. P. 8191.
116. Aguilar-Frutis M. Optical and electrical properties of aluminum oxide films deposited by spray pyrolysis / M. Aguilar-Frutis, M. Garcia, and C. Falcony // Applied Physics Letters. 1998. Vol. 72, Iss. 14. P. 17001702.
117. First mirrors for diagnostic systems of ITER / A. Litnovsky, V. Voitsenya, A. Costley, A. J. Donné // Nuclear Fusion. 2007. Vol. 47, Iss. 8. P. 833838.
118. Mahlein H. F. Properties of Laser Mirrors at Non-normal Incidence / Optica Acta: International Journal of Optics. 1973. Vol. 20, Iss. 9. P. 687697.
119. Baba K. Optical polarizer using anisotropic metallic island films with a large aperture and a high extinction ratio / K. Baba, M. Miyagi // Opt. Lett. 1991. Vol. 16, Iss. 12. P. 964966.
120. ПоліщукВ.М. Фотометрія. Конспект лекцій для студентів 3 курсу денної і 4 курсу заочної форм навчання спеціальності 6.090600 Світлотехніка і джерела світла / В.М.Поліщук. Харків: ХНАМГ, 2008. 147c.
121. Smith B. Fundamentals of Fourier Transform Infrared Spectroscopy / B. Smith. New Jersey: Taylor and Francis Group, LLC, (Second ed.) 2011. P. 183.
122. HurleyD.C. Determination of the nonlinear ultrasonic parameter using a Michelson interferometer / D.C.Hurley, C.M.Fortunko // Measurement Science and Technology. 1997. Vol.8. P.634642.
123. SorokinA.V. Instrument-to-PC interfacing using an enhanced parallel port / A.V.Sorokin / Instruments and Experimental Techniques. 2002. Vol.45. P.516520.
124. Microwave-frequency conversion methods by optical interferometer and photodiode / G. Maury, A. Hilt, T. Berceli [et. al.] // IEEE Transactions on Microwave Theory and Techniques. 1997. Vol. 45, Iss. 8. P. 1481 1485.
125. Удосконалення процесу вимірювань показника заломлення інтерферометрич­но-поворотним методом / Н. Андрущак, І. Карбовник, Я. Бобицький [та ін.] // Теоре­тична електротехніка. 2010. №61. C.120127.
126. Spatial anisotropy of the acoustooptical efficiency in lithium niobate crystals / A.S. Andrushchak, E.M. Chernyhivsky, Z.Yu. Gotra [et al.] // J. Appl. Phys. 2010. Vol. 108. P.103118(15).
127. Просторова анізотропія фотопружного ефекту в кристалах кварцу / А.С.Ан­дру­щак, О.В.Юркевич, Н.А. Андрущак [та ін.] // Електроніка та інформаційні технології. 2011. №1. С. 98109.
128. GenzelL. Far-infrared fourier transform spectroscopy / Millimeter and sub­millimeter wave spectroscopy of solids. Topic in Applied Physics Vol.74 / Gen­zelL. / Ed. G.Grüner. Springer, 1998. P.169220.
129. WilliamsD. Spectroscopy / D.Williams. Academic Press, 1976. P.366.
130. UlrichR. Far-infrared properties of metallic mesh and its complementary structure / R.Ulrich // Infrared Physics. 1967. Vol.7. P.3755.
131. ChambersW.G. Theoretical studies of the frequency response of some far-infrared interferometers with wire-grid beam dividers / W.G.Chambers, C.L.Mok, T.J.Parker // J. Phys. D: Appl. Phys. 1980. Vol.13. P.515526.
132. NordinM. Controlling mechanical systems with backlasha survey / M.Nordin, P.O.Gutman // Automatica. 2002. Vol.38. P.16331649.
133. A fuzzy system compensator for backlash. Robotics and Automation / K.T.Woo, L.-X.Wang, F.L.Lewis, Z.X.Li // Proceedings IEEE Inter­na­tion­al Conference. 1998. Vol.1, No1. P.181186.
134. Rectangular waveguide compatible NRD guide gunn oscillator with medium power and low phase noise at 60 GHz / K.Futoshi, Y.Koichi, S.Hiro­shi, Y.Tsukasa // IEICE Transactions on Electronics (Japanese Edition). 2006.Vol.J89. P.228233.
135. SiegelP.H. Terahertz technology / P.H.Siegel // IEEE Transactions on Microwave Theory and Techniques. 2002. Vol.50. P.910928.
136. MartinD.H. Spectroscopic techniques for far infrared, submillimeter and millimeter waves / D.H.Martin. Amsterdam, The Netherlands: North-Holland, 1967. 393pp.
137. PutleyE.H. The detection of sub-mm radiation / E.H.Putley // Proceedings of the IEEE. 1963. Vol.51. P.14121423.
138. NakajimaF. New millimeter and submillimeter ave detecting system utilizing n-InSb electronic bolometer / F.Nakajima, M.Kobayashi, S.Narita // Jpn. J. Appl. Phys. 1978. Vol.17. P.149153.
139. PiotrowskiJ. Uncooled long wavelength infrared photon detectors / J.Pio­trow­ski, A.Rogalski // Infrared Physics & Technology. 2004. Vol.46. P.115131.
140. 813 μm InAsSb heterojunction photodiode operating at near room temperature / J.D.Kim, S.Kim, D.Wu [et al.] // Appl. Phys. Lett. 1995. Vol.67, Iss.18. P.26452647.
141. EberthJ. Encapsulated Ge detectors: Development and first tests / J.Eberth // Nu­clear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spec­trometers, Detectors and Associated Equipment. 1996. Vol.369. P.135140.
142. McGregorD.S. Room-temperature compound semiconductor radiation detectors / D.S.McGregor, H.Hermon // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment. 1997. Vol.395. P.101124.
143. Capillary electrophoresis microchip with a carbon nanotube-modified electrochemical detector / J.Wang, G.Chen, M.P.Chatrathi, M.Musameh // Anal. Chem. 2003. Vol.76. P.298302.
144. PhillipsT.G. A low temperature bolometer heterodyne receiver for millimeter wave astronomy / T.G.Phillips, K.B.Jefferts // Rev. Sci. Instrum. 1973. Vol.44. P.10091014.
145. RichardsP.L. Bolometers for infrared and millimeter waves / P.L.Richards // J. Appl. Phys. 1994. Vol.76. P.124.
146. Low noise high-Tc superconducting bolometers on silicon nitride membranes for far-infrared detection / M.J.M.E.deNivelle, M.P.Bruijn, R.deVries [et al.] // J. Appl. Phys. 1997. Vol.82, Iss.10. P.47194726.
147. BurrusC. Millimeter and submillimeter wave spectroscopy / C.Burrus // Phys. Rev. 1956. Vol.101. P.599602.
148. WiltseJ.C. History of millimeter and submillimeter waves / J.C.Wiltse // Micro­wave Theory and Techniques, IEEE Transactions. 1984. No32. P.11181127.
149. Novel infrared detector based on a tunneling displacement transducer / T.W.Ken­ny, W.J.Kaiser, S.B.Waltman, J.K.Reynolds // Appl. Phys. Lett. 1991. Vol.59. P.18201822.
150. BoccaraA.C. Thermooptical spectroscopy: Detection by the mirage effect / A.C.Boc­cara, D.Fournier, J.Badoz // Appl. Phys. Lett. 1980. Vol.36. P.130132.
151. Андрущак Н.А. Визначення показника заломлення плоскопаралельних пластин інтерферометрично-поворотним методом в діапазоні мм-субмм хвиль / Н.А.Ан­дру­щак, О.І. Сиротинський // Моделювання та інформаційні технології. 2007. №42. С. 97102.
152. Андрущак Н.А. Експериментальна установка для вимірювання показника заломлення матеріалів в діапазоні міліметрових-субміліметрових хвиль / Н. А. Андрущак, О. І. Сиротинський // Тези 5-ї міжнародної молодіжної науково-технічної конференції ‘Современные проблемы радиотехники и телекоммуникаций РТ2009’. Севастополь (Крим, Україна, 2025 квітня 2009). С. 194.
153. Andrushchak A. S. Automation of measuring process of materials refractive in-dexes in the millimeter waves range by interferometric-turning method / A. S. Andrushchak, O. I. Syrotynskiy, N. A. Andrushchak // Proceeding of the International Conference TCSET’ 2008. 1923 February 2008, LvivSlavske, Ukraine. P. 224.
154. Андрущак Н.А. Вдосконалення методу визначення показника заломлення плоскопаралельних пластин в діапазоні мм-субмм хвиль // Студентська науково-технічна конференція. Тези доповіді. Львів, 5 листопада 2007. С. 34.
155. YashchyshynY.M. Ceramic-polymer ferroelectic materials for antenna applications / Yashchyshyn Y. M., Modelski J., Szafran M. //Proceedings of the 4th International Conference on Antenna Theory and Techniques 2003. Vol. 2 P. 687 - 691.
156. Андрущак Н.А. Інтерферометрична установка для визначення показника заломлення плоскопаралельних пластин в діапазонах мм-субмм довжин хвиль. Апробація на прикладі оптичного скла і кристалів кварцу, сапфіру та евлітину / Н.А.Андрущак, О.І.Сиротинський // Вісник НУ Львівська політехніка”. Електроніка. 2009. №646. C.179184.
157. SuzukiY. Frequency stabilization of NRD waveguide Gunn oscillator at 60GHz / Y.Suzuki, F.Kuroki, T.Yoneyama // Electronics and Communications in Japan (Part II: Electronics). 1995. Vol.78. P.4048.
158. Fabrication of rectangular waveguide compatible NRD guide Gunn oscillator at 60GHz / K.Futoshi, Y.Koichi, S.Hiroshi, Y.Tsukasa // IEIC Technical Report 2004. Vol.104. P.5155.
159. ТибінкаБ.В. Автоматизація процесу вимірювання показників заломлення плоско паралельних пластин із оптичних матеріалів інтерферометрично-поворотним методом