Каталог / Фізико-математичні науки / Кристалографія, фізика кристалів
скачать файл: 
- Назва:
- Особенности физического распыления перспективных нанопористых материалов ионами инертных газов низкой энергии Сычева Анастасия Александровна
- Альтернативное название:
- Features of physical sputtering of promising nanoporous materials with low-energy inert gas ions by Anastasia Aleksandrovna Sycheva
- ВНЗ:
- Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова
- Короткий опис:
- Сычева,АнастасияАлександровна.Особенностифизическогораспыленияперспективныхнанопористыхматериаловионамиинертныхгазовнизкойэнергии: диссертация ... кандидата физико-математических наук : 01.04.15 /СычеваАнастасияАлександровна; [Место защиты: Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова]. - Москва, 2020. - 148 с. : ил.больше
Цитаты из текста:
стр. 1
рукописиСычеваАнастасияАлександровнаОСОБЕННОСТИФИЗИЧЕСКОГОРАСПЫЛЕНИЯПЕРСПЕКТИВНЫХНАНОПОРИСТЫХМАТЕРИАЛОВИОНАМИИНЕРТНЫХГАЗОВНИЗКОЙЭНЕРГИИСпециальность
стр. 6
для моделированияфизическогораспылениянанопористыхматериаловионаминизкойэнергии, выбрана методика и разработан алгоритм такого моделирования; изучено влияние потенциалов, описывающих взаимодействие налетающихионовс атомами вматериале, на результаты моделирования; исследованыособенностифизическогораспылениянанопористыхматериаловионаминизкихэнергий; изучено...
стр. 12
пор. 12 В Разделе 5 представлены результаты МД моделированияфизическогораспыленияструктурных аналогов low-k диэлектриковионамиинертныхгазовнизкойэнергии. Продемонстрировано влияние массы налетающихионовна интенсивностьфизическогораспыленияи модификацию структурынанопористыхматериалов. Выполнено сопоставление результатов моделирования воздействияионовнананопористыеструктуры из...
Оглавление диссертациикандидат наук Сычева Анастасия Александровна
СОДЕРЖАНИЕ
Введение
1. Роль ионов низкой энергии при плазменной обработке нанопористых диэлектриков
1.1. Плазменная обработка 1ом>-к диэлектриков
1.1.1. Строение 1ом>-к пленок
1.1.2. Плазменные реакторы
1.1.3. Методы исследования 1ом>-к диэлектриков
1.1.4. Механизмы травления 1ом>-к диэлектриков
1.1.5. Деградация 1ом>-к пленок под действием плазмы
1.2. Воздействие ионов на нанопористые материалы
1.2.1. Особенности взаимодействия ионов со сплошными мишенями
1.2.2. Компьютерное моделирование взаимодействия ионов с поверхностью
1.2.3. Моделирование физического распыления методом молекулярной динамики
1.2.4. Особенности взаимодействия ионов с наноструктурированными материалами
1.2.5. Экспериментальные исследования воздействия ионов на 1ом>-к диэлектрики
2. Методика моделирования
2.1. Постановка задачи
2.2. Метод молекулярной динамики
2.2.1. Интегрирование уравнений движения
2.2.2. Описание межатомного взаимодействия
2.2.3. Начальные и граничные условия
2.2.4. Методы учета энергообмена с внешней средой
2.3. Разработка процедуры моделирования
2.3.1. Выбор потенциала взаимодействия
2.3.2. Построение моделей
2.3.3. Обоснование выбранной процедуры моделирования
2.3.4. Реализация алгоритма моделирования
2.3.5. Создание методики анализа результатов 59 Выводы к разделу
3. Влияние выбора потенциала на результаты моделирования физического распыления
3.1. Постановка задачи
3.2. Влияние выбора потенциала взаимодействия
3.2.1. Физическое распыление
3.2.2. Модификация приповерхностных слоев
3.3. Влияние массы налетающих ионов инертных газов
3.3.1. Физическое распыление
3.3.2. Модификация приповерхностных слоев
3.4. Воздействие ионов инертных газов на диоксид кремния 85 Выводы к разделу
4. Влияние размера пор и пористости на процесс физического распыления
4.1. Постановка задачи
4.2. Особенности физического распыления нанопористых материалов
4.2.1. Увеличение интенсивности распыления
4.2.2. Роль кривизны поверхности
4.3. Модификация приповерхностных слоев нанопористых материалов
4.4. Влияние параметров нанопористого материала на изменения в его структуре 103 Выводы к разделу
5. Воздействие легких и тяжелых ионов инертных газов низких энергий на нанопористые материалы
5.1. Постановка задачи
5.2. Воздействие ионов различной массы на нанопористые материалы на основе кремния
5.2.1. Физическое распыление и модификация поверхности
5.2.2. Особенности воздействия легких и тяжелых ионов
5.2.3. Формирование сплошного слоя на поверхности
5.3. Воздействие ионов различной массы на нанопористые структуры на основе диоксида
кремния
5.3.1. Облучение нанопористых SiO2 структур ионами инертных газов
5.3.2. Сопоставление результатов моделирования с экспериментальными данными 131 Выводы к разделу
Заключение
Благодарности
Список используемых сокращений
Список работ по теме диссертации
Список литературы
ВВЕДЕНИЕ
- Стоимость доставки:
- 230.00 руб