Источники пучков ионов твердотельных веществ на основе вакуумно-дугового и пеннинговского разрядов для экстремальных режимов ионной имплантации Кулевой Тимур Вячеславович

Краткое описание

Кулевой,ТимурВячеславович.Источникипучковионовтвердотельныхвеществнаосновевакуумно-дуговогоипеннинговскогоразрядовдляэкстремальныхрежимовионнойимплантации: диссертация ... доктора технических наук : 01.04.04 /КулевойТимурВячеславович; [Место защиты: Томский государственный университет систем управленияирадиоэлектроники]. - Москва, 2019. - 252 с. : ил.больше
Цитаты из текста:

стр. 1
ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКОГО ЦЕНТРА «КУРЧАТОВСКИЙ ИНСТИТУТ» На правах рукописиКУЛЕВОЙТИМУРВЯЧЕСЛАВОВИЧИСТОЧНИКИПУЧКОВИОНОВТВЕРДОТЕЛЬНЫХВЕЩЕСТВНАОСНОВЕВАКУУМНО-ДУГОВОГОИПЕННИНГОВСКОГОРАЗРЯДОВДЛЯЭКСТРЕМАЛЬНЫХРЕЖИМОВИОННОЙИМПЛАНТАЦИИ01.04.04 Физическая электроника Диссертация на соискание ученой степени доктора

стр. 2
зарядового состоянияионов, 16 генерируемых в плазмевакуумно-дуговогоразряда. 1.1 Генерация многозарядныхионовметаллов висточникахионовнаосновевакуумнойдуги... 1.2 Повышение зарядового состоянияионовпри 1.2.1 Исследование электронной пушки с инжекции 27 катодами 27 31 электронногопучкав плазмувакуумно-дуговогоразряда. различного типа.. 1.2.2...

стр. 15
сотрудничество. 16 Глава 1 Методы повышения зарядового состоянияионов, генерируемых в плазмевакуумно-дуговогоразрядаВ главе приведены результаты исследований, направленные на повышение зарядовых состоянийионов, генерируемыхионнымисточникомнаосновевакуумно-дуговогоразряда(далее ВДИИМ вакуумно-дуговойисточникионовметаллов). В англоязычной литературе такиеисточники...

Оглавление диссертациидоктор наук Кулевой Тимур Вячеславович
1.2.1 Исследование электронной пушки с катодами различного типа
1.2.2 Экспериментальное исследование источника e-MEVVA
1.3 Вакуумно-дуговой источник со ступенчатым разрядом в сильном магнитом поле
1.3.1 Измерения магнитного поля вдоль оси источника
1.4 Выводы по главе
Глава 2 Повышение зарядового состояния ионов, генерируемых в разрядной системе в скрещенных ЕхН полях ионного источника Bernas
2.1 Современное состояние проблемы
2.2 Техника и методика эксперимента
2.2.1 Возможности формирования высокоэнергетического электронного пучка с термокатода в источнике Bernas версия ИТЭФ
2.3 Параметры электронного пучка, инжектируемого в разрядный промежуток
2.4 Взаимодействие высокоэнергетического электронного пучка
с плазмой разряда
2.4.1 Качественное описание физических процессов в ионном источнике
2.5 Выводы по главе
Глава 3 Многоатомные борсодержащие молекулярные ионные пучки для экстремально низкоэнергетической имплантации
3.1 Актуальность и современное состояние проблемы генерации пучков борсодержащих молекулярных ионов
3.2 Источник многоатомных борсодержащих молекулярных ионов
3.2.1 Получение первых спектров на источнике типа Bernas. Экспериментальная работа с различными комбинациями катод-антикатод и с электронным пучком
3.2.2 Охлаждаемая разрядная камера
3.2.2.1 Медная и молибденовая камеры
3.2.2.2 Прямонакальный катод
3.2.2.3 Катод с косвенным накалом с тепловым экраном
3.2.2.4 Оптимизация работы ионного источника с катодом с косвенным накалом
3.3 Система подачи рабочего вещества
3.4 Устойчивая работа источника. Спектр высокого разрешения
3.4.1 Декаборан
3.4.2 Карборан
3.5 Система формирования и транспортировки ионного пучка
3.5.1 Система формирования ионного пучка с плазменной границы разряда
3.5.2 Система транспортировки от источника до 139 масс
3.5.3 Система транспортировки пучка от выхода магнитного масс-анализатора до мишени (Транспортный канал с электростатическим ондулятором)
3.6. Экспериментальное исследование электростатического ондулятора
3.7 Результаты по имплантации в кремниевые подложки [171]
3.8 Выводы по главе
Глава 4 Стабильное функционирование источника пучков
многоатомных борсодержащих молекулярных ионов
4.1 Методы и подходы
4.2 Фторсодержащий карборан
4.3 Фторопластовая вставка
4.4 1-о-Карборанкарбоновая кислота
4.5 1,2-о-Карборандикарбоновая кислота
4.6 1,7-м-карборандикарборановая кислота
4.7 Возможные механизмы самоочистки разрядной камеры
4.8 1,2-бис(гидроксиметил)-о-карборан
4.9 Режим выхода на стабильную генерацию пучка тяжелых ионов
4.10 Выводы по главе
Глава 5 Применение ионного источника с вакуумной дугой для
фундаментальных и прикладных исследований
5.1 Введение
5.2 Ионный источник для ускорителя ТИПр-1
5.2.1 Использование источника для ускорителя тяжелых
ионов
5.3 Исследование взаимодействия пучка ионов с плазмой и
газовой мишенью
5. 4 Имитационные эксперименты
5.4.1 Облучение образцов на выходе инжектора с отклонением ионного пучка
5.4.2 Имитационные эксперименты на выходе ускорителя ТИПр-1
5.5 Создание силицидов рения для полупроводниковой
промышленности
5.6 Выводы по главе
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ