Каталог / ТЕХНИЧЕСКИЕ НАУКИ / Машины и процессы полиграфического производства
скачать файл: 
- Название:
- Репета Вячеслав Богданович. Удосконалення технології УФ-лакування відбитків офсетного друку
- Альтернативное название:
- Репета Вячеслав Богданович. Усовершенствование технологии УФ-лакирования отпечатков офсетной печати
- Краткое описание:
- Репета Вячеслав Богданович. Удосконалення технології УФ-лакування відбитків офсетного друку : Дис... канд. наук: 05.05.01 - 2007.
Репета В.Б. Удосконалення технології УФ-лакування відбитків офсетного друку. Рукопис.
Дисертація на здобуття наукового ступеня кандидата технічних наук за спеціальністю 05.05.01. машини і процеси поліграфічного виробництва. Українська академія друкарства, Львів, 2006.
Дисертацію присвячено удосконаленню технології УФ-лакування відбитків офсетного друку.
На основі визначального фактору хімічного складу лакових композицій здійснено класифікацію технологій формування прозорих лакових покриттів на друкарських відбитках.
Досліджено кінетику фотополімеризації УФ-лаків, виявлено екстремальний характер залежності липкості від часу фотоініційованої радикальної полімеризації в аеробних умовах тонких шарів УФ-лаків, що пояснюється одночасним перебігом процесів інгібірування молекулярним киснем переважно верхніх шарів і фронтальної пошарової полімеризації в напрямку до верхніх шарів.
Виявлено значне скорочення у 2 рази індукційного періоду УФ-полімеризації досліджуваних лаків в присутності аргону, порівняно з азотом, що пояснюється його більшою питомою масою і кращою розчинністю.
Спираючись на результати експериментальних досліджень, розроблено пристрій УФ-сушіння лакових покриттів у середовищі аргону. Більша питома маса аргону в порівнянні з повітрям, дозволяє розмістити камеру, де буде відбуватися опромінення лакового покриття, нижче від вісі вивідного транспортера друкарської машини, з каналами розміщеними під кутом 45-600стосовно горизонтальної площини. Таке розміщення камери і каналів для проходження транспортера знизить попадання повітря в камеру і забезпечить високу концентрацію аргону в зоні опромінення.
У дисертаційній роботі розв’язано наукову задачу удосконалення технології УФ-лакування відбитків офсетного друку. При цьому отримано такі результати:
Аналіз науково-технічної літератури дозволив розробити класифікацію технологій формування захисно-декоративних лакових покриттів на друкарських відбитках, яка систематизує склад лакових композицій, механізми їх плівкоутворення та пристрої для проведення процесу плівкоутворення або його інтенсифікації і дозволив визначити напрямок наукових досліджень;
Виявлено екстремальний характер залежності липкості лакових покриттів від часу фотоініційованої радикальної полімеризації в аеробних умовах тонких шарів УФ-лаків, що пояснюється одночасним перебігом процесів інгібування молекулярним киснем переважно верхніх шарів і фронтальної пошарової полімеризації в напрямку до верхніх шарів;
Розроблено новий склад фотополімеризаційноздатної лакової композиції на основі епоксиакрилатного олігомеру, яка характеризується високою швидкістю отвердження;
Встановлено, що для досягнення максимальної швидкості фотополімеризації з мінімальним ступенем пожовтіння утвореного лакового покриття, концентрація фотоініціатора диізопропоксиацетофенону і мономеру ДМАЕА складає 10 і 2 % відповідно.
Експериментально підтверджено, що найменший час фотополімеризації спостерігається в середовищі аргону. Це пояснюється його питомою масою і кращою розчинністю в органічних сполуках у порівнянні з азотом.
Опромінення лакових покриттів в середовищі аргону дозволяє зменшити концентрацію фотоініціатора в композиції в 10 разів і збільшити в 1,14 разів зносостійкість утворених лакових покриттів.
7. Обробка офсетних відбитків коронним розрядом дозволяє збільшити розтікання на них лакової композиції і забезпечити високі адгезійні властивості покриття, внаслідок зростання полярної складової поверхневого натягу обробених поверхонь. Встановлено, що для паперу і шару фарби достатньою є потужність коронного розряду 100-120 Вт при швидкості переміщення матеріалу 30м/хв, оскільки подальше її збільшення майже не змінює поверхневого натягу.
Розроблено пристрій УФ-сушіння лакованих відбитків в середовищі аргону. Особливістю УФ-сушильного пристрою є те, що , камера, де буде відбуватися опромінення лакового покриття, розміщується набагато нижче від вісі вивідного транспортера друкарської машини, з ввідним та вивідним каналами розміщеними під кутом 45-600стосовно горизонтальної площини. Таке розміщення камери і каналів дозволяє зменшити попадання повітря у камеру і забезпечити високу концентрацію аргону у зоні опромінення.
- Стоимость доставки:
- 125.00 грн