Ионные и плазменные источники для создания модифицированных слоев в диэлектриках Шипилова Ольга Ивановна

Краткое описание

Шипилова, Ольга Ивановна.
Ионные и плазменные источники для создания модифицированных слоев в диэлектриках : диссертация ... кандидата физико-математических наук : 01.04.08 / Шипилова Ольга Ивановна; [Место защиты: Нац. исслед. ядер. ун-т «МИФИ»]. - Иркутск, 2019. - 138 с. : ил.
Оглавление диссертациикандидат наук Шипилова Ольга Ивановна
Выводы к главе
ГЛАВА 3. ПУЧКИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ИОНОВ, ЭМИТИРУЕМЫЕ ВАКУУМНЫМИ РАЗРЯДАМИ
3.1. Параметры пучка ионов, эмитированного высоковольтным ионным имплантером типа MEVVA.RU
3.2. Параметры катодной плазменной струи низковольтного вакуумно-искрового разряда
Выводы к главе
ГЛАВА 4. ИСТОЧНИКИ ГАЗОВОЙ И ГАЗО-МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПЛАЗМЫ ДЛЯ СОЗДАНИЯ МОДИФИЦИРОВАННОГО СЛОЯ В
ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ МАТРИЦЕ
4.1. Исследования параметров магнетронного разряда
малой мощности
4.2. Исследования плазмы микроволнового разряда
Выводы к главе
ГЛАВА 5. ПРИМЕНЕНИЕ ИСТОЧНИКОВ ПЛАЗМЫ ДЛЯ СОЗДАНИЯ МОДИФИЦИРОВАННЫХ СЛОЕВ ЩЕЛОЧНО-ГАЛОИДНЫХ
СОЕДИНЕНИЙ
5.1 Характеристики слоев ЩГК, облученных пучками
металлических ионов
5.2. Характеристики модифицированных слоев ЫБ, полученных с помощью магнетронного разряда и путем облучения плазмой СВЧ-
разряда
Выводы к главе
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
Список литературы